点击数:16 更新时间:2024-01-08
根据印度尼西亚的法律规定,发明专利的保护年限为自申请日或优先权日起算的20年。申请人需要提交完整的申请文件,包括英文说明书、专利范围、摘要和图样,以及申请人和发明人的完整姓名和住址,委任状、宣誓书和转让书(需公证)。如果存在优先权,申请人需要在首次申请日起的一年内提出主张,并提交相关证明文件及其英文译本。整个申请过程通常需要约2-3年的时间。审查方式为审查制,申请材料将在申请日起18个月后进行公开。授权后,申请人需要每年缴纳年费。
对于实用新型专利,其保护年限为自申请日或优先权日起算的10年。申请流程中,申请人需要提交完整的申请文件,包括英文说明书、专利范围、摘要和图样,以及申请人和发明人的完整姓名和住址,委任状。如果存在优先权,申请人需要在首次申请日起的一年内提出主张,并提交相关证明文件及其英文译本。整个申请过程通常需要约1.5-2年的时间。审查方式为审查制,申请材料不会进行公开或公告。授权后,申请人需要每年缴纳年费。
外观专利的保护年限为自申请日或优先权日起算的10年。申请人需要提交完整的申请文件,包括图样或照片以及简要说明,以及申请人和发明人的完整姓名和住址,宣誓书和委任状。如果存在优先权,申请人需要在首次申请日起的六个月内提出主张,并提交相关证明文件及其英文译本。整个申请过程通常需要约1年的时间。审查方式为注册制,申请材料不会进行公开或公告。在外观专利中,不需要缴纳年费。