集成电路设计可否取得专利权

一、集成电路布图设计可否取得专利权

根据相关法律规定，集成电路布图设计不能取得专利权，应由集成电路布图设计专有权进行保护。集成电路实际上是一种具有实用性的图形设计，其内容由集成电路中具有电子功能的元件位置进行决定，而非产品外观，因此不能落入《专利法》中外观设计专利保护的范畴。

根据《集成电路布图设计保护条例》

第二条：本条例下列用语的含义：(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织; (四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

第三条：中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。

二、集成电路布图设计专有权内容

集成电路布图设计专有权的包括复制权、商业利用权两大类。

1、复制权：未经权利人许可，任何第三人不得复制受保护的布图设计(既包括全部布图设计，也包括部分布图设计)。对集成电路布图设计专有权的复制行为是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为

2、商业利用权：是指未经权利人许可，任何第三人不得为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。

根据《集成电路布图设计保护条例》

第二条：本条例下列用语的含义：(一)集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;(二)集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置;(三)布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织;(四)复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为;(五)商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

第七条：布图设计权利人享有下列专有权：(一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;(二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。